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Machine à ruban adhésif submicronique/machine de placement T8W/T8WS

  • Introduction:

1. Réalisez la distribution, la viscose, le film collant, le placement, le wafer collant, l'emballage inversé, le GaAs, le contrôle de la pression adhésive, la haute précision.

2. Utilisez une plate-forme de mouvement d'air ultra-précise, le système principal X, Ax Y utilise un encodeur linéaire haute résolution avec un système de flotteur à air sans contact et sans contact. L'échelle de l'encodeur peut atteindre une précision de 0,02 μm, peut atteindre un positionnement à grande vitesse, précis et submicronique.

3. La conception de la plate-forme utilise une plate-forme sportive à grande vitesse intégrée en granit de haute stabilité, de sorte que T8W assure la stabilité thermique et la stabilité mécanique et atteint un temps de démarrage à grande vitesse et ± 1,5 μm et une précision de patch encore meilleure en même temps, afin de répondre les exigences d'application de haute précision.

4. Boîte ou disque d'alimentation: peut contenir jusqu'à 90 gaufres de 2 "x2" ou 24 cartons de 4 "x4" ou plateau combiné.

5. Plaquette pour matériau: peut prendre en charge des plaquettes jusqu'à 8 pouces, équipées d'un dispositif mécanique de dé à coudre à axe Z à entraînement par moteur et d'un anneau en cristal solide.

6. Four eutectique sous vide: utilisez un chauffage infrarouge ou à plaques, chauffant rapidement, mais le rouge, et avec un chauffage à chauffage rapide; jusqu'à 450℃, vide selon la pompe à vide en option, entre 10-4pa-500pa. La température est programmée avec un régulateur de température programmable.

Modèle T8WS T8W
Mouvement X/Y 500*500mm 650*650mm
Encodeur 50nm ou 20μm fondamentaux 50nm ou 20μm fondamentaux
Resolution 20nm 20nm
Vitesse de pose 6500UPH 6500UPH
Vitesse de montage de la puce retournée 2000UPH 2000UPH
Précision de positionnement +/-lμm +/-lμm
Répétez la précision de positionnement +/-0.2μm +/-0.3μm
Rectitude +/-lμm +/-lμm
Platitude +/-lμm +/-l.5μm
Précision de placement <lμm Positionnement radial réel (selon l'application) <3μm Positionnement radial réel (selon l'application)
Répéter la précision du placement ±lμm@3sigma ±lμm@3sigma
Vitesse maximum 1000m/s ou 40inch/second 1000m/s ou 40inch/second
Accélération maximale 2G 2G
Placement de l'axe Z Selon la pression ou la hauteur Selon la pression ou la hauteur
Contrôle de la pression Chaque fois que le placement est programmé par un retour en temps réel
contrôle, la plage de pression est de 10 à 2000 grammes
Mouvement et résolution de l'axe Z 45mm/0.1um
Précision de remplacement d'angle O.1°@3sigma
Plateforme de mouvement Plate-forme en granit massif flottant à l'air de haute précision, pas de pièces en porte-à-faux
Système de mouvement Cartes de contrôle de mouvement et encodeurs importés
Ruban avec alimentation 8mm, l2mm, 16mm, 24mm, 32mm, 44mm, peut être installé jusqu'à 32 chargeurs de 8mm
Taille de la puce minimum 0.15-5mm, remplacer la pointe, la plus grande puce sans la limite réelle
Épaisseur de puce Coupe ou pièces de soudure de 0.05-2mm d'épaisseur
Poids 2000kg 2100kg
Dimension 1730(L) x l400(W) x 1480(H) 1880(L) x l400(W) x 1480(H)
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